净化室工程温湿度控制要求
净化室工程的温湿度主要是根据工艺要求来确定,但在满足工艺要求的条件下,净化车间施工要求,应考虑到人的舒适度感。但作为总的原则看,光学净化车间,由于加工精度越来越精细,所以对温度波动范围的要求越来越小。
例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中,光纤净化车间,作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温。同时要求湿度值一般较低。因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜**过25度。
大部分净化厂房尤其电子工业用的洁净厂房都有严格的恒温、恒湿的要求,不仅对厂房内的温、湿度有严格的要求,而且对温度和相对湿度的波动范围也有严格的要求。因此,茶山净化车间,在净化空调系统的空气处理上要采取相应的措施,例如:夏季要降温、去湿(因为夏季室外空气是高温、高湿的),冬季要加热加湿(因为冬季室外空气是寒冷干燥的,室内湿度过低会产生静电,静电对电子产品的生产是致命的)。
接地:
接地是带电导体消除静电较为普遍、经济、简便、可靠的方法。
(1) 净化车间内可能产生静电危害的设备、流动液体、气体或粉体管道应采取防静电接地措施。
(2) 电子工业洁净室的围护结构(吊顶、地面、墙、柱)应采用防静电装饰,可以抑制尘埃的带电吸附。
(3) 工艺设备接地。
(4)办公设备应采用能防静电的材料制成并接地。
(5)工作人员应穿戴防静电的无尘衣、鞋、帽、手套、腕带等。